Нуриддинов БЗ, Довранов КТ, Ташатов АК. ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПЛЕНКИ SiO2 НА ПОВЕРХНОСТИ Si ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ. CAJMTCS [Internet]. 2023 Feb. 10 [cited 2026 Aug. 5];4(2):50-5. Available from: https://cajmtcs.casjournal.org/index.php/CAJMTCS/article/view/376