Нуриддинов, Б. З. ., К. Т. . Довранов, and А. К. . Ташатов. “ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПЛЕНКИ SiO2 НА ПОВЕРХНОСТИ Si ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ”. CENTRAL ASIAN JOURNAL OF MATHEMATICAL THEORY AND COMPUTER SCIENCES, vol. 4, no. 2, Feb. 2023, pp. 50-55, doi:10.17605/OSF.IO/RCX4Y.