Нуриддинов, Б. З. ., Довранов, К. Т. . and Ташатов, А. К. . (2023) “ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПЛЕНКИ SiO2 НА ПОВЕРХНОСТИ Si ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ”, CENTRAL ASIAN JOURNAL OF MATHEMATICAL THEORY AND COMPUTER SCIENCES, 4(2), pp. 50–55. doi: 10.17605/OSF.IO/RCX4Y.