Нуриддинов, Б. З., К. Т. Довранов, and А. К. Ташатов. 2023. “ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПЛЕНКИ SiO2 НА ПОВЕРХНОСТИ Si ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ”. CENTRAL ASIAN JOURNAL OF MATHEMATICAL THEORY AND COMPUTER SCIENCES 4 (2):50-55. https://doi.org/10.17605/OSF.IO/RCX4Y.