Нуриддинов, Б. З. ., Довранов, К. Т. ., & Ташатов, А. К. . (2023). ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПЛЕНКИ SiO2 НА ПОВЕРХНОСТИ Si ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ. CENTRAL ASIAN JOURNAL OF MATHEMATICAL THEORY AND COMPUTER SCIENCES, 4(2), 50–55. https://doi.org/10.17605/OSF.IO/RCX4Y